7731.JP(nikon)

基本資料

Nikon（尼康），精密光學與半導體設備廠商，主要業務分為成像（相機/鏡頭）與精密設備（光刻機 Lithography）。2030 年前成像業務仍是主要利潤來源，其現金流用於投資次世代 ArF 與 Maskless 數位微影研發（FY26-30 共 ¥8,000 億 R&D+CAPEX 預算）。微影業務預期在 2030 年後成為主要成長引擎。2030 前重點在拓展現有 ArF 系統，同時研發新平台（2nm 以下需求）。

主要資料來源：報告_GF廣發_日本科技巡訪_202606（GF Securities HK，~2026-06）。

核心競爭優勢

• ArF dry 不受出口管制：ArF dry 系統在中國銷售不受限制，中長期中國貢獻預期 20-25%；ArF 浸潤機雖不允許出口，但降規版本可出口
• 數位微影（Maskless）布局：1H27 出貨首套數位微影系統（目標 PLP），310mm 晶圓封裝前傳統步進機仍為主流，面板尺寸擴大至 500-600mm 後數位微影效益顯著提升
• R&D 重押 2030 後：FY26-30 ¥8,000 億預算集中於次世代 ArF 與 Maskless 數位微影，建立 2030 後增長儲備
• Tier-1 客戶拓展：潛在機會進入更多 Tier-1 客戶（作為第二供應商），但 Intel ArF 浸潤機需求極低是近期限制

產品與應用

產品	技術類型	出口限制	中國可售性	應用
ArF dry 光刻機	193nm 乾式	無限制	可正常出口	成熟製程、後段
ArF 浸潤光刻機	193nm 浸潤	受限	降規版可出口	先進製程前段
i-line / KrF 光刻機	365nm / 248nm	無限制	正常	成熟製程
數位微影（Maskless）	Maskless	—	—	PLP、大尺寸面板（500-600mm）

微影出貨量趨勢（FY23-FY27E）

年度	i-line/etc.	KrF	ArF dry	ArF 浸潤	合計
FY23	27	6	8	4	45
FY24	23	4	8	11	46
FY25	18	2	5	3	28
FY26	20	2	4	3	27
FY27E	17	2	7	3	29

圖片 / 架構圖

Nikon 微影系統出貨量 FY23-FY27E：FY25 總量降至 28 台（vs FY24 46 台高峰），ArF 浸潤機 FY26 實際為 0 台（Intel 需求極低），FY27E 預計小幅回升至 29 台。資料來源：GF Securities Japan Tech Tour ~2026-06。

時間軸

時間	事件	類型	重要性	備註
FY26	ArF 浸潤機實際銷售為 0 台	業績	⭐⭐⭐	Intel 主要客戶需求極低；ArF imm ASP 是 dry 的 10x
1H27	數位微影（Maskless）首套系統出貨（PLP 應用）	技術里程碑	⭐⭐⭐	2030 前貢獻有限
2030+	微影業務取代成像成為主要成長引擎	長期	⭐⭐⭐	FY26-30 R&D+CAPEX ¥8,000億鋪底
長期	中國 ArF 貢獻穩定在 20-25%	地緣	⭐⭐	ArF dry 不受限；降規浸潤機可出口

供應鏈位置

• 主要競爭者：ASML（EUV/ArF 浸潤壟斷）、Canon（ArF 乾式，較弱）
• 關鍵弱點：ArF 浸潤機主要客戶 Intel 需求量極低（vs ASML 客戶台積電/三星量大）
• 所屬供應鏈：無對應現有供應鏈頁

相關公司

公司	關係	說明

風險與注意事項

• ArF 浸潤機需求不振：FY26 實際 0 台銷售，FY27E 僅 3 台；Intel 是主要客戶但 ArF imm 需求極低，業務恢復取決於 Intel 資本支出
• ASML 壟斷壓力：EUV 以下先進製程幾乎被 ASML 包攬，Nikon 僅能在 ArF dry/特殊應用保有份額
• 數位微影 2030 前貢獻有限：1H27 首台出貨後需時間打磨產品力，主力貢獻要等 2030 後

來源

• 報告_GF廣發_日本科技巡訪_202606（GF Securities HK，~2026-06；Japan Tech Tour 實地拜訪）