3551_世禾(市)

基本資料

世禾科技,台灣半導體精密設備清洗(Cleaning)服務領導廠商。主要業務是為半導體晶圓廠提供製程設備的精密清洗、再生(Restore)和組件修復服務。隨 TSMC 先進製程節點(N3、N2)擴產,製程設備清洗頻率增加(更精密製程對潔淨度要求更嚴苛),直接受益。

核心競爭優勢

  • TSMC N2/N3 關鍵供應商:先進製程節點設備清洗要求更嚴苛,世禾技術能力直接受益 TSMC 先進節點擴產
  • N2 清洗費用 +10% vs N3:更先進製程對應更高 ASP,毛利率結構性提升
  • 2026 台南廠落成:台南廠擴建完成,配合 TSMC 台南廠(N3/N2 主要基地)需求擴大
  • 長期合作關係:設備清洗服務黏著度高,更換清洗廠商需重新驗證,轉換成本大

EPS 記錄與預估

年度EPS(NT$)來源備註
2026F9.83報告來源N2 ASP 提升 + 台南廠貢獻

目標價與評等

券商報告日評等目標價備註來源
NT$270報告_世禾3551

圖片/架構圖

[待補來源圖] 需官方 IR 光纖被動元件或 FA 接頭產品圖佐證,現有研究筆記不足以支撐產品示意圖。

時間軸

時間事件類型重要性備註
2025-2026TSMC N3 產能持續擴大需求⭐⭐⭐設備清洗頻率隨良率要求提升
2026台南廠落成,配合 TSMC 台南廠擴產產能⭐⭐⭐
2026TSMC N2 量產,N2 清洗費 +10% vs N3定價⭐⭐⭐ASP 結構性提升

供應鏈位置

  • 下游(直接):台積電(TSMC)、聯電(UMC)等晶圓廠
  • 業務特性:服務型,不持有晶片庫存,CAPEX 相對輕
  • 所屬領域:半導體製程服務(Semiconductor Equipment Services)

相關公司

公司關係說明
2330_台積電(市)主要下游客戶TSMC 先進節點擴產直接驅動清洗服務量

風險

  • TSMC 先進節點擴產放緩
  • N2 良率提升後設備清洗頻率可能降低(相對 N3 初期)
  • 競爭對手以低價搶市(但驗證成本限制)

來源

  • 報告_世禾3551(TP 270,EPS 2026F 9.83,N2 清洗 ASP +10% vs N3,台南廠 2026)

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