6770_力積電(市)

基本資料

力積電(PSMC,Powerchip Semiconductor Manufacturing Corporation)是台灣規模最大的 DRAM 晶圓代工廠,前身為力晶半導體,歷經 2010 年前後 DRAM 產業洗牌後轉型為純代工模式。公司採「Open Foundry」理念,允許客戶沿用既有製程平台與品管政策直接導入,產品平台分為記憶體(DRAM)和邏輯(PMIC、RF 邏輯等)兩大主軸,並於近年設立第三支柱「3D AI Foundry」。

主要產品/服務

  • DRAM 晶圓代工:台灣 Legacy DRAM 代工市佔率超過 71%,競爭對手逐步退出,接近壟斷地位;記憶體佔營收 >50%(2026Q2)
  • 邏輯 IC 代工:PMIC(電源管理 IC,成長中最大宗)、DDIC(逐步 EOL)、RF 邏輯;logic 8”/12” 2026H1 漲價 10-15%
  • 3D AI Foundry:Wafer-on-Wafer 堆疊、IPD(矽中介層元件)、Si Capacitor(目前主力,Intel EMIB 主用)、PWF(與 MU.US(micron) 合作)、Interposer

財務概況(資料來源:2026-06-29 法說):

  • 2025 年全年營業額:NT$472 億
  • 2026 年全年預估成長:>50%(預估 NT$700 億以上)
  • 2026Q1 本業獲利:約 NT$5 億,第二季起增量幾乎全數轉為利潤
  • 2025 年出貨量:163 萬片(12 吋等量換算)

產能與稼動率

  • 5 座晶圓廠(2 座 8 吋、3 座 12 吋),位於新竹科學園區
  • 12 吋廠稼動率 90% 以上,8 吋廠已由 80% 提升至 90% 以上

供應鏈位置:介於 DRAM 設計客戶與 OSAT 封測廠之間的晶圓代工角色;在 3D AI 業務中同時扮演 Interposer 供應商角色,連接 AI 晶片與先進封裝生態系。

資料來源活動_力積電法說_20260629(2026-06-29,發言人譚仲明)


核心技術/競爭優勢

  1. Legacy DRAM 代工壟斷:國內唯一仍大規模經營 DRAM 代工的廠商,市佔率超過 71%,同業相繼退出後形成實質壟斷,客戶黏著度高、定價能力強。

  2. Open Foundry 模式的差異化:允許客戶將自有製程、QA 政策、品管標準直接移植至力積電廠內,相當於客戶「自有產線」的延伸,降低客戶切換成本亦降低競爭威脅,與聯電等傳統 Foundry 形成差異。

  3. 3D AI Foundry 的技術堆疊

    • Wafer-on-Wafer:4 片堆疊已完成驗證,8 片堆疊開發中
    • IPD(In-Package Device):月產超過 1,000 片,採 38nm DRAM 製程,與大型客戶合作驗證嚴格
    • Interposer:月產超過 2,000 片,擴產至 5,000 片計畫中
    • PWF(Partial Wafer Foundry):與 MU.US(micron) 簽訂至 2030 年長期合約,美光預付 3 億美元購置設備,力積電以晶圓/代工費攤還,預計 2027Q2-Q3 量產
  4. 美光深度合作:P5 廠(Tongluo 廠)已售予美光,設備移至 P1、P2 廠進行技術移轉,引入 Hybrid Bonding、Hyperbonding 等次世代技術,築起技術壁壘。

  5. 高毛利產品組合轉型:3D AI 業務毛利率高、PMIC 毛利率優於 DDIC,組合持續往高利潤方向移動,DDIC 逐步 EOL;Si Capacitor 為當前 3D AI 最大營收貢獻(1-2k wfpm,Intel EMIB 主用)。

  6. 記憶體製程技術升級路線圖(JPM 2026-07-14):

    • 1X 製程:自研,2026年6月已 ready
    • 1P 製程:美光技術移轉,2028年中 ramp;ASP 較現有製程高 1.5-2x
    • PWF mini-line:目標 YE26 完成,4Q27 量產(美光預付款涵蓋)

產品與應用

產品 / 服務應用相關客戶 / 下游
DRAM 晶圓代工(Legacy DRAM)工業控制、消費性電子記憶體中小型 DRAM 設計公司、大陸 AI 廠商
PMIC 晶圓代工AI 伺服器電源管理、工業電源AI 伺服器 ODM/OEM、工業電子廠
Interposer 製造AI GPU/ASIC 先進封裝基板AI 晶片設計客戶、供應鏈_先進封裝載板 生態系
IPD(In-Package Device)HBM 封裝、AI 加速器記憶體 IDM、AI 晶片廠商
PWF(Partial Wafer Foundry)HBM 堆疊關鍵元件MU.US(micron)
Wafer-on-Wafer 堆疊3D AI 晶片、HBM next-genAI 晶片廠商
DDIC 晶圓代工(EOL 進行中)面板驅動 IC面板廠、DDIC 設計公司

圖片 / 架構圖

graph LR
    A[DRAM 設計客戶] --> B[[6770_力積電(市)]]
    C[PMIC 設計客戶] --> B
    D[AI 晶片廠商] --> B
    B --> E[OSAT 封裝]
    B --> F[Interposer 供應]
    B --> G[PWF 晶圓]
    MU[[MU.US(micron)]] -.PWF 技術授權 / 長期合約至2030.-> B
    B -.-> SC[[供應鏈_先進封裝載板]]

力積電「Open Foundry」模式下,同時承接 DRAM 代工、邏輯代工及 3D AI 封裝相關製造,與美光深度合作是 PWF/HBM 業務成長關鍵路徑。


EPS 記錄

季度/年度實際 EPS(NT$)備註
2025A(1.87)FY25 虧損;記憶體代工仍未出坑
2026Q1A3.36漲價效應開始顯現(含銅鑼廠售予美光一次性利益)
2026Q2A0.78+27% QoQ 營收;GM 28.3%(+18ppt QoQ)

注意:2026Q1 EPS NT3.11。

EPS 預估

年度/季度JPM EPS(NT$)JPM 前估毛利率備註
2026Q3E1.101.0937.9%
2026Q4E1.501.2943.2%+45% 記憶體結構性漲價流入
2027Q1E1.621.4745.2%
FY2026E6.616.4132.3%含 Tongluo 一次性利益;recurring 3.11
FY2027E7.166.5247.0%YoY+130%(recurring base)
FY2028E8.407.7449.9%歷史峰值 51% 約 2028 中期可超越

GM 路線圖:YE26 ~43% → YE27 ~48% → 2028 中期 >51%(突破歷史峰值)


時間軸

時間事件類型重要性備註
2026Q2記憶體結構漲價(Jul 再漲 ~45%)確認業績超預期⭐⭐⭐GM 28.3%(+18ppt QoQ),強於預期;4Q26 加速浮現
2026 全年預估營收 NT$75,138M(+61% YoY,JPM)業績催化⭐⭐⭐記憶體代工佔比 >50%,結構性漲價延伸至 27 年
2026Q23D AI 業務達 5%+ 營收結構轉型⭐⭐⭐1Q26 3%,2025 全年 2-3%;目標 3 年內達 20%
2026 年底1X 製程(自研)ready → 已於 2026-06 完成技術里程碑⭐⭐製程升級前哨,為 1P 技術轉移鋪路
YE26PWF mini-line 目標建成產能擴張⭐⭐⭐Micron 預付款設備;4Q27 目標量產
YE27Si Capacitor 達 8-10k wfpm產能擴張⭐⭐⭐目前 1-2k,2028 可達 15-20k;Intel EMIB 主用
2027Interposer 5-6k wfpm(從 P5 遷入)上線新業務放量⭐⭐CoWoS 供給吃緊帶動外溢需求
2028 中PWF 量產 + GM 超越歷史峰值 51%利潤升級⭐⭐⭐1P 製程(美光技術移轉)同步放量
2027Q2-Q3PWF 量產(修正自原預估 2027Q2-Q3)新業務放量⭐⭐⭐JPM 最新為「4Q27」量產
2027-20283D AI 業務佔比達 20%+結構轉型⭐⭐⭐1Q26 開始 5%+;Si Cap + Interposer + PWF 三線驅動

供應鏈位置

  • 上游:晶圓設備商(ASML.NL(asml)、AMAT 等)、化學品、光罩
  • 技術合作夥伴MU.US(micron)(PWF 技術授權、設備預付、長期合約至 2030)、日本 Renesas(早期 DDIC 技術淵源)
  • 下游:OSAT 封測廠、記憶體模組廠、AI 伺服器 ODM/OEM
  • 所屬供應鏈供應鏈_先進封裝載板(Interposer/IPD 角色)

相關公司

公司關係說明
MU.US(micron)技術合作夥伴 / 客戶PWF 長期合約至 2030、預付 3 億美元設備費;P5 廠(Tongluo 廠)已售予美光;1P 製程技術移轉
INTC.US(intel)客戶Si Capacitor wafer 主要供 Intel EMIB 使用;目前 1-2k wfpm
2330_台積電(市)競爭/外溢需求TSMC CoWoS 供給吃緊 → Interposer 需求外溢至 PSMC

風險與注意事項

  • 代工 vs IDM 時間差:力積電為純代工,獲利落後 IDM 同業(Samsung、Micron 等),不可直接比較毛利率;景氣下行時收入更脆弱
  • 地緣政治雙刃劍:美國 AI 客戶可能迴避含中國元件的供應鏈;同時對大陸 AI 客戶的出口管制風險需持續追蹤
  • 3D AI 業務集中風險:PWF 幾乎全押美光單一客戶;若美光 HBM 策略轉向或合約未續,業務缺口難以短期填補
  • 晶合集成持股風險:因兩岸局勢與財務考量,無法增資大陸晶合集成,若晶合估值或業務出現問題,帳面影響需注意
  • 員工分紅攤薄:獲利回升後提列員工分紅及董監酬勞,約 10-15% 利潤被提列,EPS 成長幅度低於本業獲利成長

目標價與評等

券商日期評等目標價評價基礎來源
JPM2026-07-14OverweightNT$100(Jun-27)13x 12M forward(調低 1 档,因近期記憶體情緒偏弱)報告_JPM_力積電_20260714

來源

  • 報告_JPM_力積電_20260714(JPM,2026-07-14,Gokul Hariharan;OW 維持 TP NT$100;EPS 上修 26E→6.61 / 27E→7.16 / 28E→8.40;GM 路徑 32%→47%→50%;Si Cap + 1X/1P + PWF 三線長期驅動)
  • 活動_力積電法說_20260629(2026-06-29,來源類型:法說/法人說明會,信心水準:高)

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