6937_天虹(市)

基本資料

天虹(6937 TT)是台灣 PVD(物理氣相沉積)/ ALD(原子層沉積)設備廠,主要供應半導體及先進封裝製程的薄膜沉積設備。在先進封裝方面,天虹切入面板級 PVD(CoPoS/FOPLP 面板尺寸 PVD)及混合鍵合(SoIC)製程所需的 PVD 設備,並在玻璃基板 TGV 製程的種子層沉積段佈局。

面板級 PVD 是其差異化競爭點——300mm 晶圓設備廠眾多,但能做 310×310mm(CoPoS)以上面板尺寸 PVD 的廠商遠少於晶圓廠,天虹二三號機訂單進度為重要追蹤指標。

資料來源:報告_先進封裝技術發展方向_20260722(定錨產業筆記,2026-07-22)

核心技術/競爭優勢

  • 面板級 PVD 二/三號機進駐: CoPoS 310×310mm 面板需要能處理大面積的 PVD 設備,天虹是台廠中率先佈局的廠商。
  • SoIC/混合鍵合 PVD: 混合鍵合製程前需 PVD 種子層,CoWoS-R/L 中介層 PVD 同樣是需求端。
  • ALD 能力: 進一步布局 ALD 薄膜沉積,適應線寬縮小後薄膜均勻性要求。

產品與應用

產品 / 服務應用相關客戶 / 下游
面板級 PVD 設備CoPoS/FOPLP 面板製程種子層2330_台積電(市)3711_日月光投控(市)
晶圓級 PVD 設備SoIC/混合鍵合種子層、CoWoS RDL封裝廠通用
ALD 設備先進封裝薄膜均勻性需求通用

圖片 / 架構圖

flowchart LR
    天虹6937 --> A[PVD設備<br/>面板級]
    天虹6937 --> B[PVD設備<br/>晶圓級]
    天虹6937 --> C[ALD設備]
    A --> D[CoPoS 310×310mm<br/>FOPLP 600×600mm]
    B --> E[SoIC/混合鍵合<br/>CoWoS RDL]
    C --> F[先進封裝薄膜]

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    class 天虹6937 co
    class A,B,C prod
    class D,E,F app

圖說:天虹在先進封裝 PVD 設備的核心差異化是面板尺寸能力,CoPoS 面板化時代來臨時可大幅受惠。

時間軸

時間事件類型重要性備註
2026-2027面板級 PVD 二/三號機交機放量⭐⭐⭐機台進度是最硬的追蹤指標
2027 試產CoPoS 310×310mm 台積電試産上游催化⭐⭐⭐若延期則訂單遞延

供應鏈位置

  • 設備供應:先進封裝 PVD/ALD 製程
  • 國際競爭:Evatec、AMAT、ULVAC
  • 台廠同業:友威科(3580,PVD 玻璃種子層)

相關公司

公司關係說明
2330_台積電(市)客戶CoPoS/SoIC/WMCM 面板級 PVD 設備
3711_日月光投控(市)客戶FOPLP VIPack PVD 設備

風險與注意事項

  • CoPoS 時程風險: 報告提示 CoPoS 可能延遲最多 2 年,面板級 PVD 設備訂單隨之遞延。
  • 國際競爭: Evatec/AMAT 在 PVD 技術實力更強,天虹需以服務和面板規格差異化。
  • 小廠流動性: 市值相對小,研究報告少,需以法說/客戶訊息追蹤。

來源

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