Dai Nippon Printing（未）
基本資料
大日本印刷（DNP，TSE: 7912）是日本印刷業龍頭，業務已擴展至精密光電材料、半導體封裝材料。在光封裝領域，DNP 利用壓印微影（Imprint Lithography）的製程優勢，在 ECTC 2026 發表「玻璃基板高密度聚合物波導」研究，核心成果是把「高密度 = 高折射率對比 Δ」量化清楚，做到 10 µm 間距、串擾 −32.3 dB。
資料來源：research_simpletechtrend_CPO矽光子ECTC2026_20260629（2026-06-29）
核心技術
壓印高密度聚合物波導（ECTC 2026）
DNP 用壓印微影（imprint lithography + squeegee 降殘留層）在玻璃基板上做高密度聚合物波導：
| 相對折射率差 Δ | 最小可用間距（串擾 ≤−30 dB） |
|---|---|
| 0.4–0.5% | 30–50 µm |
| 1.0–1.3% | 20 µm |
| ≥2.3% | 10 µm |
實測（Δ=2.3%）：10 µm 間距、串擾 −32.3 dB。
可靠度：HTS 150°C 500 小時後 Δ 從 3.02% 降到 2.87%（遠高於 1.4% 可靠度門檻）。
商業定位：DNP 的壓印製程是並行式製程，吞吐遠大於慶應大學 Mosquito 法（序列式）——高密度 + 量產節拍，適合做 GPU 大面積玻璃波導基板。
圖片/架構圖
[待補來源圖] 需官方技術白皮書或 IR 感光乾膜／PI 薄膜製程示意圖佐證，現有研究筆記不足以支撐架構示意圖。
相關技術
來源
- research_simpletechtrend_CPO矽光子ECTC2026_20260629（Takuya Kitainui et al., DNP, ECTC 2026，2026-06-29）